与一般离子镀技术相比，多弧离子镀具有很多优势，如高的离化率，沉积速率快，且可通过在基体施加偏压进一步提高沉积离子能量，从而达到膜/基结合强度等优点，这使得多弧离子镀工艺在沉积TiN类硬质结构薄膜方面发挥了重要作用。

　　利用多弧离子镀技术可以制备金黄色的TiN膜，黑色的TiC膜，棕色的TiAIN膜和绿色的ZrO膜等。获得的膜层具有附着力强、不易脱落、绕射性好、厚度均匀、镀层致密、孔隙率低等特点。

　　同时，可镀材质广，在金属和非金属面上均可镀制金属或金属反应膜，节约贵重金属材料、无污染。

　　作为一种较为理想的装饰涂层制备方法，多弧离子镀装饰涂层从镀表壳、表带发展到镀瓷砖、卫生洁具、楼梯扶手、大厅圆柱及汽车车身、配电柜体等。已经广泛应用于人们的日常生活和工业产品装饰的许多领域。

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